Event 

Title:
Seminarios en el Acelerador - Nanoestructuración de superficies de silicio mediante erosión iónica: influencia de la incorporación simultánea de metales
When:
10.02.2011 - 10.02.2011
Where:
CMAM - Madrid
Categoría:
Seminarios informales en el Acelerador

Description

Ponente:  José Ángel Sánchez García, Instituto de Ciencias de Materiales (ICMM - CSIC), Madrid, España

En la última década, la producción de nanopatrones auto-organizados en diferentes superficies mediante el bombardeo iónico a baja energía (< 1keV), /IBS/, se ha mostrado como una prometedora herramienta de nanoestructuración utilizando un enfoque de "abajo-arriba" (/bottom-up). Esta técnica permite un alto grado de control sobre las principales características de los patrones a partir de su producción sobre grandes áreas (cm2) y tiempos relativamente cortos de proceso (unos pocos minutos). En esta charla se expondrá la producción de nanopatrones auto-organizados en superficies de Silicio por /IBS/ bajo la incorporación simultánea de metales. Se mostrará cómo la incorporación inadvertida de metales durante la irradiación del silicio puede añadir un parámetro adicional para definir la morfología final. En particular, el aumento del nivel de incorporación de metales puede dar lugar a nuevas morfologías de Nanoagujeros con características similares a los Nanopuntos en cuanto a nivel de orden y distancia característica entre las nanoestructuras. Finalmente, este trabajo demuestra la relevancia e importancia del análisis químico de la superficie después de este tipo de procesos de nanoestructuración.

Venue

CMAM
Venue:
CMAM   -   Website
Street:
Faraday 3, Campus de Cantoblanco
ZIP:
28049
City:
Madrid
Country:
Country: es

Description

El seminario tendrá lugar en la sala de reuniones del CMAM