Curso de Introducción a la investigación en Óptica

José José Olivares Villegas, investigador del CMAM, organiza el XXVI curso de introducción a la investigación en óptica. El curso está dirigido a estudiantes universitarios interesados en la investigación.

La actividad es organizadapor el Instituto de  Optics del CSIC (www.io.csic.es), que pertenece a la red de centros de investigación del CSIC.

A trvés del curso podrás conocer los laboratorios del instituto y sus objetivos científicos que abarcan todos los aspectos de la óptica y la fotónica, con énfasis en áreas como la Óptica Fisiológica, el Procesado de Imágenes, la Metrología Óptica, la Interacción Láser-Materia, la Dinámica No-lineal de Sistemas Ópticos, la Nanofotónica y las Comunicaciones Ópticas.

La incripción es gratuita hasta el 1 de Marzo

 

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1ª Auditoría de seguimiento bajo la ISO 9001:2008, para el Suministro de Haz de Iones del CMAM, tras su renovación.

El sistema de gestión de calidad del CMAM ha sido de nuevo presentado recientemente para su revisión anual externa, por parte la empresa SGS ICS Ibérica, tras su renovación en el 2015.

Un año más, esta certificación ha demostrado ser sólida y eficiente superando la revisión sin ninguna no conformidad.

 
Nueva Tesis en el CMAM

Nueva Tesis en el CMAM sobre "Desarrollo de patrones biofuncionales sobre Si y TiN mediante haces de iones" será defendida por Esther Punzón Quijorna en la Facultad de Ciencias de la Universidad Autónoma de Madrid el 18 de Diciembre de 2015.

Abstract sobre la tesis: The recent breakthrough in Biomedicine implies an intrinsically interdisciplinary approach. In this context, science and technology of surfaces opens new opportunities to exploit the biomaterials potential. The possibility to selectively modify the surface, by chemical or topographic patterns, allows controlling factors that govern cell behavior in contact with the biomaterial.

In this work, the use of biofunctional patterns on Si and TiN as platforms to study cell response is presented. To obtain such patterns ion implantation through metallic masks has been used as main tool, following two differentiated strategies.

The Si/PSi patterns have been obtained by the MeV implantation process, which inhibits PSi formation at irradiated areas, followed by an electrochemical etching. In order to obtain the TiN/TiNO patterns the incorporation of keV oxygen ions at surface level has been employed. Both types of patterns have been optimized, studying composition, structure and morphology, paying special attention to the implantation effects. The obtained patterns have allowed controlling the response of human mesenchymal cells varying the patterns dimensions, in the case of Si/PSi, or by means of applied external potentials in the case of TiN/TiNO.

 

 

 
Jornadas de divulgación del Grado en Físicas

El CMAM participa en las Jornadas de divulgación del Grado en Física para estudiantes de bachillerato y FP superior que tendrá lugar el 16 de Diciembre de 2015 en la Facultad de Ciencias. Como parte del día, que incluye visitas a diferentes departamentos de Física de la UAM, los estudiantes visitarán el acelerador y serán capaces de llevar a cabo un pequeño experimento ilustrativo usando éste y en especial nuestra línea de Microhaz interno.

Para más información, haz click aquí ...

 

 

 
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